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标题: 硅材料清洗水水质要求 [打印本页]
作者: hong6601    时间: 2008-1-5 12:53
标题: 硅材料清洗水水质要求
硅材料清洗水水质要求，也就是硅片的前段工序。
作者: hong6601    时间: 2008-1-5 14:55
怎么没有人回复我呢。。。
作者: jack2818    时间: 2008-1-6 10:52
发个半导体超纯水水质标准，可根据半导体厂家实际产品参考选择合适的水质标准要求： §§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§§ 微电子工业水质标准
LED(TFT)
256K DRAM
1M DRAM
4M DRAM
16M DRAM
64M DRAM
线宽度(um)
-
1.4 - 1.8
0.8 - 1.0
0.4 - 0.6
0.2 - 0.3
0.1
电阻率
（Mohm,25℃）
>18.0
>17.5
>18.0
>18.0
>18.1
>18.1
TOC（ppb）
<20
<100
<30
<10
<3
<1
微粒（No./ml）
(0.1μ) <10/ml
(0.2μ) <50/ml
(0.1μ) <10/ml
(0.05μ) <30/ml
(0.03μ) <10/ml
(0.03μ) <5/ml
细菌（CFU/ml）
<1/100
<10/100
<1/100
<5/1000
<5/1000
<5/1000
溶解氧（ppb）
<50
<100
<100
<50
<5
<3
二氧化硅（ppb）
<5
<10
<5
<3
<1
<0.5
硼（ppb）
-
-
<2
0.05
0.05
0.05
钠（ppb）
<0.1
<0.2
<0.1
<0.1
0.05
0.01
钾（ppb）
<0.1
<0.3
<0.1
<0.1
0.05
0.02
锌（ppb）
<0.05
<0.1
<0.05
<0.05
0.02
0.02
铁（ppb）
<0.05
<0.05
<0.05
0.02
0.02
铜（ppb）
<0.05
<0.05
<0.05
0.005
0.005
氯化物（ppb）
<0.1
<0.2
<0.1
0.1
0.02
0.02
溴化物（ppb）
<0.1
<0.1
0.05
0.02
0.02
硝酸盐（ppb）
<0.1
<0.1
0.05
0.02
0.02
硫酸盐（ppb）
0.1
<0.2
0.05
0.05
0.05
不溶残渣（ppb）
<0.3
0.1
0.05
0.05
0.05
也可参考一下下面链接的标准： http://www.chinacitywater.org/bbs/viewthread.php?tid=44039&extra=page%3D2 [ 本帖最后由 jack2818 于 2008-1-6 11:49 编辑 ]
作者: 齐齐001    时间: 2008-1-9 17:59
我也正找这个东西呢， 谢谢三楼提供。
作者: hong6601    时间: 2008-2-23 22:33
现在客户给了一个明确的水质要求，主要对电阻率以及颗粒物还有二氧化硅等有具体的要求。
作者: wulixin12    时间: 2008-3-3 23:29
我现在正在负责硅材料冲洗水的回用项目
作者: ymwatcher    时间: 2014-3-11 15:11
很有价值的资料，收藏了，谢谢楼主的奉献，楼主加油。。。。



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