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[资料] 超纯水设备如何制备高品质超纯水

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 楼主| 发表于 2025-3-18 10:02:37 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式



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  芯片生产产能的提升,就如同牵一发而动全身,与之紧密相连的产业也都跟着 “动起来”。其中,芯片制造过程中清洗用的超纯水需求更是如火箭般蹿升。要知道,在芯片生产那一道道精细的工序里,几乎每一步都离不开超纯水来帮忙清洗,超纯水就像是芯片制造过程中的 “清洁小卫士”。为了能给芯片制造稳稳地供应充足的清洗用水,超纯水设备也火力全开,加大生产力度。​
  如今芯片产业里用到的超纯水设备,早就抛弃了老旧传统工艺,转而用上了超厉害的膜分离技术,主要靠反渗透工艺、EDI 和精处理混床工艺来生产超纯水。这么一升级,效果立竿见影,产水量蹭蹭往上涨,而且出水水质完全符合 ASTM D5127 - 13 中 E1.3 标准,稳稳地满足了芯片行业那严苛的用水需求。​
  下面就来详细说说这些工艺到底有多牛:​
  反渗透工艺:它就像一个超级精细的 “筛子”,利用反向渗透的原理,把水中那些溶解盐类、有机物、胶体还有大分子物质一股脑儿都给筛出去,让水质里的离子含量大幅降低。打个比方,这就像是你拿着一个细密的滤网,在一大盆混着沙子、小石子和各种杂质的水里仔细过滤,最后留下的水干净了许多。​
  EDI 模块:这个模块可太省心了,不用酸碱再生,运行成本低得很。而且它的自动化程度超高,就像一个不知疲倦的小机器人,能 24 小时不间断工作,产出的水水质又好又稳定,出水电阻率能达到≥15MΩ・CM 。这就好比家里有个智能电器,不用你操心维护,还一直稳定工作,给你带来优质的服务。​
  抛光混床工艺:它堪称高纯度水处理系统里的 “终极净化器”,专门负责把水中的离子含量降到极低,低于 1PPT 级别,产出的水电阻率更是能高达 18.2MΩ・CM 。这就如同给已经很干净的水再进行一次超级精细的打磨,让它变得无比纯净。​
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