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楼主: rain2007
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[讨论] 纯水/超纯水(有问必答)

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实习版主

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发表于 2010-2-6 20:32:53 | 只看该作者



请教超纯水生产工艺中各单元回水回到哪里比较经济合理?
清啦

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发表于 2010-2-6 20:57:25 | 只看该作者
逐级回流是最经济实用的 所谓逐级回流就是这样 EDI的浓水回流至一级反渗透产水箱 二级反渗透浓水回流至超滤水箱或者原水箱
各位亲们,陶氏反渗透膜及东丽反渗透膜,长期可以提供比市场价更优惠更实惠的价格。

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发表于 2010-2-6 21:02:01 | 只看该作者
冷霜版主,有个问题 就是超纯水平常用的仪表,诸如 TOC检测仪、 SiO2检测仪、 颗粒物检测仪 溶氧检测仪 你们都会选用什么品牌的产品
各位亲们,陶氏反渗透膜及东丽反渗透膜,长期可以提供比市场价更优惠更实惠的价格。

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发表于 2010-2-6 21:03:41 | 只看该作者
现在知道的较好的品牌就是HACH品牌,但是无奈价格太高,用不起啊 首先声明,不是用在半导体行业的,所以想选择一些较便宜、性价比较高的品牌
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 楼主| 发表于 2010-2-9 12:29:43 | 只看该作者



原帖由 hong6601 于 2010-2-6 21:02 发表 冷霜版主,有个问题 就是超纯水平常用的仪表,诸如 TOC检测仪、 SiO2检测仪、 颗粒物检测仪 溶氧检测仪 你们都会选用什么品牌的产品
这些仪表我们都用的进口的,国产的还真没听说过,也没敢用 就拿水质计来说吧 国产的,上泰品牌,10兆以上的纯水用这个测就不准了 就必须用GF的,或者THORTON的
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初级水师

66
发表于 2010-2-10 22:14:19 | 只看该作者
纯水方面一般采用二级反渗透或者加混床 一般后面抛光树脂 所得纯水可以达到18M,用于半导体等精密设备的制备用水

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王者水师

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 楼主| 发表于 2010-2-22 13:51:39 | 只看该作者
原帖由 leotian 于 2010-2-10 22:14 发表 纯水方面一般采用二级反渗透或者加混床 一般后面抛光树脂 所得纯水可以达到18M,用于半导体等精密设备的制备用水
同意 看来是行家啊
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发表于 2010-2-25 10:06:10 | 只看该作者
冷霜 那个氮封用氮气的压力有没有要求呢,如果有,压力要求是多大
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发表于 2010-2-26 08:45:38 | 只看该作者
已经得到答案了,氮气压力不小于0.1MPa,冷霜看看,可是这样
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发表于 2010-2-26 16:59:49 | 只看该作者



冷霜版主 我想请问一下,工艺中不用软化器而以阻垢剂来代替,那么这个阻垢剂水箱的容积应该如何来确定? 另外一个就是,软化器中配置的再生盐箱的容积如何确定?

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 楼主| 发表于 2010-3-1 22:18:53 | 只看该作者
原帖由 hong6601 于 2010-2-26 08:45 发表 已经得到答案了,氮气压力不小于0.1MPa,冷霜看看,可是这样
这个最低的氮气压力要看选用的微压调压阀的,像fisher的调压阀,一般是要保证至少0.2Mpa 不过一般的氮气供给压力都在0.5Mpa以上,所以都没有问题

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发表于 2010-3-1 22:22:02 | 只看该作者
加药箱的容积满足3昼夜的加药量就可以了 再生盐箱的规格依照再生盐溶液确定即可
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 楼主| 发表于 2010-3-1 22:23:38 | 只看该作者
原帖由 annyrong1985060 于 2010-2-26 16:59 发表 冷霜版主 我想请问一下,工艺中不用软化器而以阻垢剂来代替,那么这个阻垢剂水箱的容积应该如何来确定? 另外一个就是,软化器中配置的再生盐箱的容积如何确定?
(1)阻垢剂水箱的容积要考虑到设计配置一次药液用几天的量 一般我喜欢设计7-10天配置一次药液 至于入水端的阻垢剂投加浓度,如果是GE的阻垢剂,推荐3-5ppm为宜 依次即可算出需要的水箱容积 (2)软化器的再生盐箱设计原理同上,每次装满设计可以再生1-2次 软水树脂再生按照100g纯NaCl/L树脂来计算 饱和的食盐溶液浓度约25%,考虑到冬天温度低,可以把浓度稍微取低一点 这样就可以计算出需要的容积了 这两个问题都比较实际,却是设计人员需要解决的基础问题,呵呵 希望我的回答能对你有帮助
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发表于 2010-3-2 20:01:29 | 只看该作者
刚刚接触 互相学习

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发表于 2010-3-4 15:24:15 | 只看该作者
非常感谢版主的回答·· 还有个新的问题: 我们用到的多介质过滤器和活性炭过滤器、软化器、混床的介质填充高度一般是如何计算的?碳钢的和玻璃钢的都一样吗?

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发表于 2010-3-4 15:32:33 | 只看该作者
原帖由 leotian 于 2010-2-10 22:14 发表 纯水方面一般采用二级反渗透或者加混床 一般后面抛光树脂 所得纯水可以达到18M,用于半导体等精密设备的制备用水
仅仅是前处理+二级反渗透这样的出水达到什么水质? 前处理+二级反渗透+EDI+抛光混床的出水呢? 那如果是二级反渗透+EDI+抛光混床+终端超滤呢?

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 楼主| 发表于 2010-3-4 22:05:12 | 只看该作者
原帖由 annyrong1985060 于 2010-3-4 15:24 发表 非常感谢版主的回答·· 还有个新的问题: 我们用到的多介质过滤器和活性炭过滤器、软化器、混床的介质填充高度一般是如何计算的?碳钢的和玻璃钢的都一样吗?
纯水净水版块有人发过这些设备的计算书,你搜索下看看 在此我就不重复了 不过理论虽然一样,但是每家公司的具体数据都会有点不一样 一般来说,MMF和ACF的高度都是比较固定的 但是SF和MB要根据树脂量,高度会有变化 由于玻璃钢灌的高度固定,72寸的总高度也就1.8米,而碳钢尺寸则可以任意制定 所以会有些不一样
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 楼主| 发表于 2010-3-4 22:07:36 | 只看该作者
原帖由 annyrong1985060 于 2010-3-4 15:32 发表 仅仅是前处理+二级反渗透这样的出水达到什么水质? 前处理+二级反渗透+EDI+抛光混床的出水呢? 那如果是二级反渗透+EDI+抛光混床+终端超滤呢?
(1)根据各地原水水质不同,二级RO出水可能在0.2-1M,好的时候可以达到1兆; (2)EDI的出水水质可以保证在16兆以上,加上抛光混床可以达到17.5兆以上; (3)末端加上终端超滤,由于终端UF只是对particle有去除作用,并无提升水质之功能。

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膜法师hong + 8 冷霜的回答太准确了

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发表于 2010-3-8 19:32:54 | 只看该作者
冷霜版主,有个提议,那就是有空把大家提出的问题整理成册,然后统一发表,这绝对是一个很好的教科书。
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发表于 2010-3-10 11:48:05 | 只看该作者
0.1um的滤芯跟0.22um的滤芯(对于同一长度的)的产水量区别大吗?
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